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紅外氣體傳感器 半導體行業薄膜沉積工藝

簡要描述：紅外氣體傳感器 半導體行業薄膜沉積工藝是由四方儀器自主研發的高性能氣體傳感器，產品基于非分光紅外技術(NDIR),能夠精確測量半導體等應用中產生的WF6、CF4、SF6、NF3、CO2等氣體,兼容機臺內常見預留尺寸、法蘭和通訊協議，可用于半導體沉積和清洗工藝的端點檢測、腔室清理終端檢測,能夠減少清潔時間,節約成本,提高產量。

  • 產品型號：Gasboard-2061
  • 廠商性質：生產廠家
  • 更新日期：2025-05-27
  • 訪  問  量：856
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詳細介紹

紅外氣體傳感器 半導體行業薄膜沉積工藝


產品名稱：紅外氣體傳感器

產品型號：Gasboard-2061


紅外氣體傳感器產品概述

紅外氣體傳感器是由四方儀器自主研發的高性能氣體傳感器，產品基于非分光紅外技術(NDIR),能夠精確測量半導體等應用中產生的WF6、CF4、SF6、NF3、CO2等氣體,兼容機臺內常見預留尺寸、法蘭和通訊協議，可用于半導體沉積和清洗工藝的端點檢測、腔室清理終端檢測,能夠減少清潔時間,節約成本,提高產量。


紅外氣體傳感器產品特性

（1）使用NDIR技術，多氣體監測支持(WF6、CF4、SF6、NF3、CO2等氣體)

（2）響應時間快，高靈敏度

（3）無耗材

（4）模擬/數字通信

（5）模塊化設計，便于集成


紅外氣體傳感器技術參數


檢測原理NDIR
檢測氣體WF6、CF4、SF6、NF3、CO2
量程1~264ppm(0~200mTorr)
重復性±0.5%
線性±1%F.S.
檢測限1ppm







應用領域

半導體行業薄膜沉積工藝CVD設備的EPD氣體檢測

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